삼성의 피땀 묻은 ‘세계 최초’ 기술을 “중국이 단번에 ‘뚝딱’?” … 심상치 않아 뚜껑 열어보니 ‘발칵’

중국 최초 D램 기술 유출
삼성 전직 임원·연구원 기소
피해액 수십조원 규모 추정

삼성전자가 막대한 비용을 들여 세계 최초로 개발한 최첨단 D램 공정 기술이 국외로 빠져나갔다. 그 결과 중국 반도체 기업은 자국 최초의 18나노 D램 생산에 성공했고, 한국 반도체 산업은 수십조원 규모의 피해에 직면했다.

검찰은 이번 사건을 국가 경제를 위협하는 중대한 범죄로 규정하며 관련자들을 줄줄이 법정에 세웠다.

중국 D램 기업으로 넘어간 기술

서울중앙지검 정보기술범죄수사부는 지난 1일 삼성전자 전직 임원 양모 씨와 연구원 신모 씨, 권모 씨 등 3명을 산업기술보호법 위반 및 부정경쟁방지법 위반 혐의로 구속기소했다.

이들은 중국 D램 기업 CXMT로 이직해 ‘2기 개발팀’의 핵심 인력으로 활동하며 삼성의 18나노 D램 공정 기술을 무단 활용한 혐의를 받는다.

CXMT는 지방정부가 2조6000억원을 투입해 설립한 중국 최초의 D램 회사로, 해당 기술은 삼성전자가 1조6000억원을 들여 세계 최초로 개발한 최첨단 공정이었다.

고액 연봉과 대규모 피해

검찰 조사에 따르면 이들은 삼성의 실제 반도체 제품을 분해해 유출된 자료를 검증한 뒤, 이를 토대로 제조 테스트를 진행하며 완성도를 높였다.

CXMT는 이들에게 삼성 연봉의 3~5배에 달하는 15억~30억원 수준의 보수를 약속하고 4~6년간 고용했다. 그 대가로 중국은 세계에서 네 번째로 18나노 D램을 양산할 수 있게 됐다.

하지만 삼성전자가 입은 피해는 막대하다. 지난해 기준 매출 손실만 5조원으로 추산되며, 앞으로는 최소 수십조원대 피해가 이어질 것으로 전망된다.

검찰의 강경 대응

앞서 검찰은 같은 기업의 ‘1기 개발팀’에 참여한 삼성 전직 부장 김모 씨와 연구원 출신 전모 씨도 기소한 바 있다. 특히 김 씨는 삼성 퇴직자 A 씨로부터 공정 자료를 넘겨받았던 것으로 드러났으며, A 씨는 현재 인터폴 적색 수배 상태다.

검찰은 이번 사건을 두고 “기업의 핵심 자산이 국외로 흘러가는 것은 곧 국가 경쟁력을 위협하는 중대한 범죄”라며 “앞으로도 기술 유출 행위에 대해 엄정하게 대응하겠다”고 강조했다.